Chrom-Target zum Sputtern und Beschichten von Metall mit kundenspezifischer Größe

-Wir bieten hochdichte, warmgewalzte Chrom-Sputtertargets aus elektrolytischem Chrom an, die mit einem geringen Gehalt an Sauerstoff und anderen gasförmigen Verunreinigungen auf eine Reinheit von bis zu 99,99% verfeinert wurden. Wir sind gut positioniert, um die Bedürfnisse und Marktanforderungen unserer Kunden zu erfüllen, indem wir eine große Auswahl an Chrom-Targets für das Sputtern und Beschichten von Metall mit kundenspezifischer Größe anbieten.

Produkt - Details

Produkteigenschaft

Das Sputtertarget aus Chrom wird unter Anleitung unseres Expertenteams unter Verwendung von Material bester Qualität und hoch entwickelter Technologie hergestellt. Und es ist ein ausgezeichnetes Beschichtungsmaterial für die hochauflösende BE-Bildgebung von Proben mit niedrigem Z-Wert und biologischen Proben.


Produktbeschreibung

Das Sputtertarget aus Chrom besteht aus hochwertigem Chrom mit einer sehr feinen Korngröße. Darüber hinaus kann es ein idealer Gegenstand als Halbleitermaterial sein, das sich als nützliche Beschichtung erwiesen hat. Ausgestattet mit hoher Leistung spielt es eine wichtige Rolle in der Elektronik- und Informationsindustrie wie integrierten Schaltkreisen, Informationsspeichern, Flüssigkristallanzeigen, Laserspeichern, elektronischen Steuergeräten usw. Darüber hinaus verwendet unser Chrom-Sputtertarget Ionen, die von einem Ion erzeugt werden Quelle zur Beschleunigung und Aggregation in einem Vakuum zur Bildung eines Hochgeschwindigkeitsenergiestrahls und zum kinetischen Energieaustausch zwischen Ionen und festen Oberflächenatomen. Die Atome auf der festen Oberfläche werden vom Feststoff getrennt und auf der Oberfläche des Substrats abgelagert.

 


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